レゾナックは、山口県周南市の徳山事業所において、半導体製造に使用される高純度フッ化水素ガスの製造を2026年内に開始する。既存の川崎事業所に加えた国内2拠点体制を構築し、供給能力と安定性を高める。同製品は半導体回路のエッチング工程で使用され、ウエハーを極低温に冷却して加工するクライオエッチング技術などで需要が拡大している。
データセンターやAI用途の拡大に伴う先端半導体向けの需要増加に対応し、供給体制を強化して半導体材料市場の成長に貢献していく。
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