SCREENセミコンダクターソリューションズ 直接描画露光装置の高生産性モデル発売

2017年6月16日

SCREENセミコンダクターソリューションズは、直接描画露光装置として業界最高水準の5μm解像度で毎時70枚の処理を実現し、半導体後工程の先端パッケージ市場の量産化に対応した直接描画露光装置「DW-6000」を開発し、販売を開始した。 この装置は、高出力の355nmYAGレーザーと4台の描画ヘッドの組み合わせにより、最小線幅5μmの解像度で1時間当たり70枚という、量産向け直接描画露光装置として業界最高水準のスループットを実現。また、独自のiGLV光学エンジンとレーザー制御技術の融合により、解像力2μmの超高精度露光や、Fan-Out化で課題となる半導体チップ再配置時の位置ズレに対し、露光デー…