スパッタリングターゲット– tag –

JX金属の子会社である台湾日鉱金属股份は、半導体用スパッタリングターゲットの加工設備の増強を行い、同拠点における生産能力を現行から約80％引き上げる。2024年度下期以降、随時稼働予定。同社グループは、半導体用スパッタリングターゲットで高いシェ...

JX金属、茨城県ひたちなか市に、半導体用スパッタリングターゲットや圧延銅箔・高機能銅合金条などの先端素材の製造・開発を行うひたちなか新工場を建設する。 敷地面積は24万平方メートル、投資金額は2000億円規模になる見込み。2025年度初頭から順次操業...

ＪＸ金属は、茨城県ひたちなか市新光町に先端素材分野の新工場の建設に向けて新たに24万平方メートルの用地を取得した。 新工場は半導体用スパッタリングターゲットや圧延銅箔・高機能銅合金条といった先端素材に加え、新規事業となる結晶材料等に関連する...