シーシーエス、画像検査用光学ユニット「微分干渉ユニット」と「瞳分割偏光ユニット」発売 ウエハやガラス基板のナノメートル単位の微細欠陥に対応

シーシーエスは、画像処理検査で使用する光学ユニットの新製品として、「微分干渉ユニット」と「瞳分割偏光ユニット」を発売した。半導体ウエハーやガラス基板のナノメートル単位の微細な欠陥に対する検査ソリューションを拡充する。
近年は、半導体デバイスの微細化に伴い製造現場で検査能力の高度化が求められており、従来の専用機材は視野が狭く測定に時間がかかることが課題だった。それに対し同社は、独自の光学設計により微細な欠陥を広い視野で1回の撮像で観察できる光学ユニットを開発。これにより高解像度を維持しながら検査時間を従来比で約8分の1に短縮できる。
微分干渉ユニットは、反射光の位相差による干渉を観察して微細な段差やキズを可視化。広い視野で表面の平坦部と段差の見え方の差を強調した明るい画像を取得できる。
瞳分割偏光ユニットは、表面の傾きを偏光の変化として捉え、微細なうねりや傾斜や反りを可視化。高さ方向への動作が不要で、1回の撮像で広視野の画像を取得できる。
両製品はCマウントタイプのカメラに対応しレンズ倍率の変更も可能。同社のテスティングルームでカメラ選定や画像処理を含めた撮像テストに対応する。

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