「日本国際賞」に3氏

2013年2月6日

国際科学技術財団は2013年(第29回)日本国際賞の受賞者として、「物質、材料、生産」で「半導体製造に革新的なプロセスをもたらした化学増幅レジスト高分子材料の開発」に携わった米国のグラント・ウイルソン博士(73歳)とジャン・フレシィエ博士(68歳)を、「生物生産、生命環境」分野で「深海生物の生態と多様性の研究を通じた海洋環境保全」に貢献した米国のジョン・フレデリック・グラッスル博士(73歳)を選んだ。

このうち、ウイルソン、フレシィエ両博士は故伊藤洋博士とともに80年代初頭に、新たな化学増幅レジストを使って半導体を製造する新技術を開発した功績が評価された。半導体リソグラフィーの微細化の限界が指摘されていた中で、化学増幅レジスト技術はこの限界を打ち破り、半導体の微細化、高集積化と生産工程の高速化に革新をもたらした。

この賞は科学技術分野で独創的で飛躍的な成果を挙げた技術と業績を顕彰するもの。これまでに13カ国78人に授与している。