日本曹達は、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」について、千葉工場（千葉県市原市）での現場の2倍に生産能力を増強する。
同製品は、半導体用のKrFフォトレジスト材料として使われており、通信技術などの進化に伴い3D-NANDフラッシュメモリの生産量が増加し、車載用・産業用半導体の需要も中期的に拡大傾向にあることから、安定的な供給体制を確保するために製造設備の生産能力を増強することとした。
投資金額は25億円。完成時期2024年度下期。
日本曹達は、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」について、千葉工場（千葉県市原市）での現場の2倍に生産能力を増強する。
同製品は、半導体用のKrFフォトレジスト材料として使われており、通信技術などの進化に伴い3D-NANDフラッシュメモリの生産量が増加し、車載用・産業用半導体の需要も中期的に拡大傾向にあることから、安定的な供給体制を確保するために製造設備の生産能力を増強することとした。
投資金額は25億円。完成時期2024年度下期。
